iTops Series PVD AlN 溅射系统
iTops Series PVD AlN Sputter System
- 设备特点
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- 超高的加热能力、精确的温度控制、优秀的真空能力
- 高晶体质量的氮化铝薄膜及良好的薄膜厚度均匀性
- 占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便
- 设备稳定，稼动率高，运营成本低
- 产品应用
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- 晶圆尺寸2、4、6 英寸
- 适用材料氮化铝
- 适用工艺氮化铝缓冲层溅射
- 适用领域半导体照明
